地下日 20090328
创造人 MURASUMI A, KUROSAKA S, INAGAWA H, ODA Y 受让人 C. UYEMURA & CO., LTD 地下了一种化学镀钯溶液,此中含有:(1)钯的化合物;(2)至多一种配位剂,能够是氨以及胺化合物;(3)至多一种复原剂,能够是次磷酸以及次磷酸盐;(4)至多一种没有饱以及羧酸化合物,能够是没有饱以及羧酸、没有饱以及羧酸酐,没有饱以及羧酸盐以及没有饱以及羧酸衍生物。该化学镀钯溶液具备很高的溶液稳固性,很难发作合成,因而与一般化学镀钯溶液相比,具备更长的应用寿命。另外,因为它对即便曾经长期应用的镀膜功能无影响,因而该化学镀钯溶液可以提供精良的焊料接合以及引线接合功能。 |