地下日 20090319
创造人 YOMOGIDA K 受让人 Rohm and Haas Electronic Materials LLC 一种化学镀金溶液,可取得具备优良连系力的金镀层,并且对镍、铜、钴、钯或相似金属底层没有会造成侵蚀。其包罗以下组分:(1)水溶性氰化金;(2)配位剂;(3)1位上含一个苯基或芳烷基的吡啶羧酸酯。另外,还可含有如下物资中的至多一种作为基底金属外表解决剂:甲酸及其盐,肼及其衍生物。 |
地下日 20090319
创造人 YOMOGIDA K 受让人 Rohm and Haas Electronic Materials LLC 一种化学镀金溶液,可取得具备优良连系力的金镀层,并且对镍、铜、钴、钯或相似金属底层没有会造成侵蚀。其包罗以下组分:(1)水溶性氰化金;(2)配位剂;(3)1位上含一个苯基或芳烷基的吡啶羧酸酯。另外,还可含有如下物资中的至多一种作为基底金属外表解决剂:甲酸及其盐,肼及其衍生物。 |