由于铬外表易于钝化，有很强的耐蚀性，以是用于装璜电镀的外层，其厚度普通只有0.5-1微米，通常称之为装璜铬。

　　铬的另外一个特性是具备极高的硬度，HV=750-1000，因此又常常用于有耐磨要求的场所，通常称之为硬铬。

　　2. 镀铬根本原理

　　2.1 镀铬的阴极进程

　　图1是镀铬的阴极极化曲线，形容了镀铬的阴极进程。

　　镀铬的阴极进程分3个阶段。

　　阶段，跟着电极电位回升，电流密度回升。电极反响为

　　2H+　---> H2

　　第二阶段，跟着电极电位持续回升，电流密度转为降落。这是一个构成阴极膜的进程。

　　第三阶段，跟着电极电位持续回升，电流密度又转为回升。电极反响为

　　Cr6+ ---> Cr

　　2H+　---> H2

　　Cr6+ ---> Cr3+　(H2的复原作用)

　　2.2 阴极膜的构成

　　正在镀铬层堆积以前，阴极上学生成一层薄膜。察看薄膜的实验如图2所示。阴极为针状。停电后1秒能够察看到阴极膜(厚度约0.1微米)，停电3-4秒后阴极膜就隐没了，如图3所示。

　　2.3 硫酸的作用以及影响

　　镀液中硫酸含量的添加，阴极膜的厚度也随之添加。电极四周的成份与其它局部的成份差异较年夜，为

　　Cr6+ 65-67%

　　Cr3+ 22-23%

　　SO42-10-12%

　　若镀液中不硫酸，则不克不及构成阴极膜，只析出氢气，见图1的曲线1。

　　CrO3与H2SO4构成[(CrOn2-)m·(SO42-)n]复杂的络合物。从图4能够看出，随镀液中硫酸浓度添加，电流效率构成有峰值的状况。图4中线段1，电流效率随硫酸含量回升而回升，是由于络合物含量回升的缘故;持续添加硫酸的含量，则阴极膜厚度添加，障碍铬层的堆积，故图4线段2，电流效率随硫酸含量回升而降落。

　　2.4 Cr3+的影响

　　当镀液中Cr3+的含量回升时，图4中的曲线向右上标的目的挪动。当H2SO4=10-12g/l，Cr3+=20g/l，电流密度60-100A/dm2时，电流效率高于25%。可取得镜面光洁的镀铬层。缺陷是扩散才能差，只适宜旋转体。

　　2.5 H2的析出影响

　　惯例镀铬中，只有12-15%的电流用于堆积铬层，80-85%的电流用于析出氢气。氢气会渗入铬层，也会渗入基体达几十微米。氢气的渗入，使患上钢的委顿强度降落约30-40%。风趣的是，高强度整机镀铬后，委顿强度降落，而强度低的整机，镀铬后委顿强度反而进步。

　　3 镀铬工艺

　　3.1 惯例镀铬工艺

　　今朝应用较为宽泛的还是惯例镀铬工艺。经典的惯例镀铬溶液配方为

　　CrO3　 250 g/l

　　H2SO4　2.5 g/l

　　Cr3+　 3g /l

　　3.2 含F-镀铬工艺

　　F-作催化剂的电解液可正在室温工作，也可用于滚镀(但小整机没有太牢靠)。

　　配方一∶

　　CrO3　　 　 250 g/l

　　KF　　　　　3.5 g/l

　　温度　　　　20℃

　　电流密度　　3-5 A/dm2

　　配方二∶

　　CrO3　　 　 250 g/l

　　H2SiF6　　　5-10 g/l

　　温度　　　　18-25℃

　　电流密度　　5-10 A/dm2