PVD镀膜技术的原理

   日期:2021-10-26     浏览:247    
核心提示:  PVD是英文Physical VaporDeposition的缩写,中辞意思是物理气相堆积,是指正在真空前提下,用物理的办法使资料堆积正在被镀
   PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中辞意思是“物理气相堆积”,是指正在真空前提下,用物理的办法使资料堆积正在被镀工件上的薄膜制备技巧。

  2. PVD镀膜以及PVD镀膜机:

  PVD(物理气相堆积)镀膜技巧次要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀以及真空离子镀膜。对应于PVD技巧的三个分类,相应的真空镀膜设施也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机以及真空离子镀膜机这三种。近十多年来,真空离子镀膜技巧的倒退是快的,它曾经成为现今早进的外表解决形式之一。咱们通常所说的PVD镀膜 ,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。

  3.PVD镀膜(离子镀膜)技巧,其详细原理是正在真空前提下,采纳低电压、年夜电流的电弧放电技巧,行使气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物资与气体都发作电离,行使电场的减速作用,使被蒸发物资及其反响产品堆积正在工件上。

  4. PVD镀膜膜层的特性,采纳PVD镀膜技巧镀出的膜层,具备高硬度、高耐磨性(低磨擦系数)、很好的耐侵蚀性以及化学稳固性等特性,膜层的寿命更长;同时膜层可以年夜幅度进步工件的外观装璜功能。

  5. PVD镀膜可以镀出的膜层品种,PVD镀膜技巧是一种可以真正取得微米级镀层且无净化的环保型外表解决办法,它可以制备各类繁多金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)以及碳化物膜(TiC、TiCN),和氧化物膜(如TiO等)。 PVD镀膜膜层的厚度 —PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,普通为0.3μm ~ 5μm,此中装璜镀膜膜层的厚度普通为0.3μm ~ 1μm ,因而能够正在简直没有影响工件原来尺寸的状况下进步工件外表的各类物感性能以及化学功能,镀后没有须再加工。

  PVD镀膜可以镀出的膜层的颜色品种 —PVD镀膜今朝可以做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,玄色,灰玄色,七黑白等。经过管制镀膜进程中的相干参数,能够管制镀出的颜色;镀膜完结后能够用相干的仪器对颜色进行丈量,使颜色患上以量化,以确定镀出的颜色能否餍足要求。

  PVD镀膜与传统化学电镀(水电镀)的异同PVD镀膜与传统的化学电镀的相反点是,二者都属于外表解决的范围,都是经过肯定的形式使一种资料笼罩正在另外一种资料的外表。二者的没有同点是:PVD镀膜膜层与工件外表的连系力更年夜,膜层的硬度更高,耐磨性以及耐侵蚀性更好,膜层的功能也更稳固;PVD镀膜没有会孕育发生有毒或有净化的物资。

  9. PVD镀膜技巧今朝次要使用的行业,PVD镀膜技巧的使用次要分为两年夜类:装璜镀膜以及对象镀膜。装璜镀的目的次要是为了改善工件的外观装璜功能以及色泽同时使工件更耐磨耐侵蚀延伸其应用寿命;这方面次要使用五金行业的各个畛域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。对象镀的目的次要是为了进步工件的外表硬度以及耐磨性,升高外表的磨擦系数,进步工件的应用寿命;这方面次要使用正在各类刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头号等)、各类五金对象(如螺丝刀、钳子等)、各类模具等产物中。:

  10. PVD镀膜(离子镀膜)技巧的次要特性以及劣势 —以及真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比拟,PVD离子镀膜具备以下优点:

  1 .膜层与工件外表的连系力强,愈加耐久以及耐磨 2 .离子的绕射功能好,可以镀形态复杂的工件0 v+ R0 S4 3 .膜层堆积速度快,消费效率高4 .可镀膜层品种宽泛5 .膜层功能稳固、平安性高(取得FDA认证,可植入人体)

 









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