离子镀是真空镀膜工艺的一项新倒退。一般真空镀膜(亦称真空蒸镀)时，工件夹固正在真空罩内，当低温蒸发祥通电加热后，匆匆使待镀资料——蒸发料熔化蒸发。因为温升，蒸发料粒子取得肯定动能，则沿着眼帘标的目的冉冉回升，初附着于工件外表上沉积成膜。用这类工艺构成的镀层，与整机外表既无结实的化学连系，有没有分散衔接，附着功能很差，有时就像桌面上落的尘埃同样，用手一摸也会擦掉。但是，离子镀工艺则有所没有同，尽管也是正在真空罩内进行的，但这时候镀膜进程是以电荷通报的方式来完成的。也就是说，蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子正在低压阴极(即工件)的吸引下，以很高的速率注入到工件外表。相称于一个从枪管中射出的高速弹头，能够穿入靶体很深，正在工件上构成一种附着结实的分散镀层。

离子镀的作用进程以下:蒸发祥接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏低压直流电当前，蒸发祥与工件之间孕育发生辉光放电。因为真空罩内充有惰性氩气，正在放电电场作用下局部氩气被电离，从而正在阴极工件四周构成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负低压的吸引，剧烈地轰击工件外表，以致工件表层粒子以及脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀外表失去了充沛的离子轰击荡涤。随后，接通蒸发祥交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，正在阴极吸引下，伴随氩离子一起冲向工件，当抛镀于工件外表上的蒸发料离子超越溅失离子的数目时，则逐步沉积构成一层结实粘附于工件外表的镀层。这就是离子镀的简略作用进程。