激光蒸镀是行使激光束作为热源加热蒸镀的一种较新薄膜制备办法。用于激光蒸发的光源可为C02激光、如激光、钕玻璃激光、红宝石激光、YAG激光和准份子激光等。今朝通常采纳的是正在空间以及工夫上能量高度集中的脉冲激光，以准份子激光成果佳。

图9-5激光蒸发试验安装原理

1～玻璃衰减器2一透镜3一光圈4一光电池5—分光器6一透镜’卜基片＆一探头9一靶10一真空室ll一xecl激光器

图9-5为Xecl激光蒸镀表示图。激光器置于真空室以外，高能量的激光束透过窗口进入真空室中，经透镜聚焦之后照耀到靶材上，使之加热气化蒸发并堆积正在基片上。

激光加热法的特性长短接触式加热，防止了坩埚净化，宜制造高纯膜层;能量密度高，可蒸发任何能排汇激光光能的高熔点资料，且因为蒸发速率极高，制患上的合金、化合物薄膜组成简直与原蒸发资料相反;易于管制，效率高，没有会惹起靶材带电。但激光蒸发进程中有颗粒喷溅，设施老本较贵，年夜面积堆积尚有艰难。

激光蒸镀可制备各类金属以及高熔点资料，和半导体、陶瓷等各类有机资料。