电子束蒸镀是行使减速电子轰击镀膜资料，电子的动能转换成热能使镀膜资料加热蒸发，并成膜。电子枪有直射式、环型以及e型枪之分。今朝用患上宽泛的是e型枪，它是由电子轨迹磁偏偏转2700成“e”字形而患上名。图9-4为e型电子枪构造图。这里位于坩埚上面的热阴极发射电子，电子经阴极与阳极间的低压电场减速并聚焦，由磁场使之偏偏转打到坩埚内镀膜资料上。电子束加热蒸镀的特性是能取得极高的能量密度，高可达l09w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，能够蒸举事熔金属或化合物;被蒸发资料置于水冷的坩埚中，可防止坩埚资料的净化，制备高纯薄膜;另外，因为蒸发物加热面积小，因此热辐射丧失缩小，热效率高。但构造较复杂，且对较多的化合物，因为电子的轰击有可能合成，故没有适宜少数化合物的蒸镀。
 图9-4 e型电子枪构造图 电子束蒸镀罕用来制备Al、C0、Ni、Fe的合金或氧化物膜，Si0二、Zr02膜，抗侵蚀以及耐低温氧化膜。 |
