真空蒸镀是正在真空前提下，用相应的办法加热膜料，使其蒸发气化成原子或份子，正在基体外表堆积构成肯定厚度的膜层。真空蒸镀具备工艺简略，操作容易，成膜速率快，效率初等特性。但也存正在膜层连系力较差，工艺反复性欠佳之缺陷。为了保障镀膜的品质，特地是为了改善膜基之间的连系力，真空室以及工件镀前的荡涤，并去除了附正在工件外表的所有脏物、氧化皮、钝化膜等至关首要。须要时，人炉蒸镀以前，基片还要进行离子轰击，以使工件外表齐全干净外，还可以使基片外表有宏观的凹凸不服，以利于膜基间连系;有时基片正在真空室内还需进行加热，以地去除了基片外表吸附的气体以及水份，并可以使某些净化物合成扫除。

真空蒸镀安装系由真空室以及真空零碎、蒸发祥或蒸发加热安装、基片架及其加热安装、膜厚监控安装等组成。图9.1是真空蒸发镀膜机的表示图。真空室常采纳装正在金属底盘上的钟罩形成，并无机械或液压把持的晋升机构;真空零碎用来取得须要的真空度，它由(超)高真空泵、低真空泵、排气管道以及阀门等组成，别的还附有冷阱以及真空丈量计等;蒸发祥是用来加热膜料使之气化蒸发的部件;基片架的作用是夹持基片，为保障镀膜的平均性，基片架有圆顶运动型、平板旋转型以及有自、公转的行星式迁移转变型等几种;膜厚监控安装用来对薄膜厚度进行监控，以达到须要的膜厚。

1一机器泵2一机器泵放气阀3一低真空阀4一预抽阀5—热偶真空规6一高真空阀7一分散泵&一电离真空规9一真空室放气阀 l0一真空室 “一蒸发祥 l2一基片夹具

依据蒸发加热的形式，真空蒸镀分为电阻加热蒸发镀、感到加热蒸发镀、电子束加热蒸发镀、激光加热蒸发镀以及电弧加热蒸发镀等办法。